交易价格： 面议
类型： 发明专利
技术成熟度： 正在研发
专利所属地：中国
专利号：ZL201220456025.9
交易方式： 完全转让
联系人： 厦门大学
所在地：福建厦门市
一种基于全息干涉术的光子晶体制造装置，涉及光子晶体制造装置。依次设有激光器、空间滤波器、全息光学元件、1/2波片和光刻胶板；激光器发出的激光经过空间滤波器的扩束后照射到全息光学元件上，经全息光学元件产生四束相干的干涉光束，1/2波片置于全息光学元件的其中1个出光口之后，入射1/2波片的线偏振光的振动方向与1/2波片晶体表面光轴间的角度为设定值，四束光重叠射在光刻胶板上，在光刻胶板上对四束光重叠的干涉结构进行单次曝光，经显影流程得大面积周期性间隙阵列结构的光子晶体。所述入射1/2波片的线偏振光的振动方向与1/2波片晶体表面光轴间的角度的设定值为15°~23.5°。
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