交易价格： 面议
类型： 发明专利
技术成熟度： 正在研发
专利所属地：中国
专利号：CN200710011044.4
交易方式： 完全转让
联系人： 中国科学院大连化学物理研究所
所在地：江苏苏州市
本发明涉及防复印膜材料，具体地说是一种基于有机膜结构的防复印膜及其制备，其以双硫腙金属盐为吸光物质，其材料组成为，吸光材料、增塑剂和PVC的质量比例为1∶20～600∶10～120。在不影响阅读效果的情况下，使被本发明膜覆盖的文件起到了防复印的效果。本发明制备防复印材料的方法简单，该方法不需要复杂的合成步骤，且对阅读效果影响不大，尤其适合于一般文字或图表性文件的防复印要求。
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