交易价格： 面议
类型： 发明专利
技术成熟度： 可以量产
专利所属地：中国
专利号：ZL200910214063.6
交易方式： 完全转让
联系人： 岭南师范学院
所在地：广东湛江市
一种超支化聚酯微光学光刻胶，由超支化碱溶性感光聚合物，活性稀释剂、交联剂、光引发剂以及助剂等组成，超支化聚酯微光学光刻胶其感光性能、刻蚀性能、线性范围等可通过超支化聚合物结构、超支化聚合物分子末端的官能团及光刻胶配方进行调节。本发明的光刻胶配制容易、理化性能可调性大，可用水性显影剂显影，因而使用中对环境影响小，同时光刻胶感光度、图像清晰度高，刻蚀深度大，并有独特的线性刻蚀性能。尤其适合微光学元件的光刻加工。
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