[00134440]叠层亚波长减反结构及其制备方法

交易价格： 面议

类型： 发明专利

技术成熟度： 正在研发

专利所属地：中国

专利号：200910264905.9

交易方式： 完全转让

联系人：中科院苏州纳米技术与纳米仿生研究所

所在地：江苏苏州市

服务承诺: 产权明晰; 资料保密
对所交付的所有资料进行保密; 如实描述

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技术详细介绍

本发明揭示了一种叠层亚波长减反结构，包括在需要减反的高折射率材料自身表面通过蚀刻形成的亚波长图形，以及在前述亚波长图形表面经沉积生长的介质层，二者共同构成该叠层亚波长结构，其结构图形根据所用材料的折射率分布和所要减反的入射光波长和角度范围计算得到。本发明亚波长减反结构应用于高折射率表面的有源光电器件，能确实有效实现宽谱广角透射效果。较之于现有技术，本发明能有效钝化亚波长减反结构，减少非辐射复合中心，抑制非辐射复合损失，有效增加相应光电器件性能；并且，鉴于空气、介质材料和衬底材料折射率依次变化，故而采用叠层亚波长减反结构还能减弱制备难度，或在相同制备情况下获得更好的减反性能。

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