交易价格： 面议
类型： 发明专利
技术成熟度： 正在研发
专利所属地：中国
专利号：200710011880.2
交易方式： 完全转让
联系人： 东北大学
所在地：辽宁沈阳市
一种工业铝电解槽纯二硼化钛阴极涂层的制备方法,属于铝电解技术领域,该方法包括以下步骤:①将阴极炭块置于专门沉积电解槽中,进行电沉积,所用电解质体系为NACL-KCL-KF-K2TIF6-KBF4-TIO2-B2O3,其各成分的质量百分含量为:2～15%NACL,2～5%KCL,35～65%KF,8～18%K2TIF6,15～29%KBF4,0～9%TIO2和0～13%B2O3,电沉积温度为720～820℃,电流密度为0.2～0.9A/CM2,电沉积时间为2～6H;②将电沉积好的阴极块装槽;③阴极炭块间的炭间缝采用纯二硼化钛粉与有机溶剂制成的炭间糊捣填。本方法优点:可得到纯度很高的TIB2镀层,与石墨阴极结合紧密,减少其在槽底的滞留时间,促进其回到电解质中溶解,达到降低电解槽底部电压降之目的,配合惰性阳极使用可大幅降低槽电压,实现节能降耗效果。
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