多孔阳极氧化铝AAO(Anodic Aluminum Oxide)膜,它的孔为单通或双通AAO结构,孔径范围介于10 nm-500 nm之间,膜厚仅为几微米到几十微米,广泛应用于纳米点阵列、纳米线阵列等的制备以及衬底表面图案化处理等。多孔阳极氧化铝AAO膜孔径均一,孔排列短程有序,氧化铝的材质使其在可见光波段是透明的,而且是电绝缘的。相对于其它图形化纳米结构制备手段(如光刻、电子束曝光、聚焦离子刻蚀),多孔阳极氧化铝AAO模板的独特优势在于可以轻易地获得平方厘米的范围内,低至纳米级的微观结构,相对于电子束光刻、聚焦离子束刻蚀等方法,其成本低廉。