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基于三氧化钨 /p 型金刚石半导体器件的耐高温性能制备技术

所属分类:新型材料产业

所属单位:长春工业大学

联系人:-

联系方式:0951-6087161 /5020588

所在地:

成果简介

极端条件下稳定、可靠半导体器件具有重要的战略意义。目前实用化的硅 Si、锗 Ge、砷化镓 GaAs 半导体器件,其最高工作温度限于 200℃以内,硅基的本征载流子浓度随着温度的升高而不断升高,掺杂载流子浓度受到抵制,在半导体的温度载流子效应和结温效应共同作用下,到 150~200℃时硅基是完全导电的状态,器件半导体性能崩溃。其中,半导体材料的禁带宽度决定了器件安全工作的最高温度,同时,器件的抗辐射能力也和禁带宽度有关,禁带宽度越宽,抗辐射能力越强。
本项目在异质结器件的设计上选用 p 型金刚石和 WO3 构成器件的核心部分,金刚石和 WO3的微观结构及电子运输性能上都具有较大的可调节性,并通过硼原子或其他材料的掺杂,改变其载流子浓度,调节禁带宽度;并将该结构制备成高温半导体器件,检验其高温下的电子传输性能,构建高温电子器件。该成果在石油和天然气勘探、地热监测、工业引擎、航天、等领域具有广泛应用前景。

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