第三代半导体产业发展的重要基础材料,以其优异的耐高压、耐高温、低损耗等性能,能够有效满足电力电子系统的高效率、小型化和轻量化要求,在新能源汽车、光伏发电、轨道交通、智能电网等领域具有重要应用潜力。然而,碳化硅衬底作为成本最高、技术壁垒最高的环节,其产能却远不足以匹配市场需求,碳化硅衬底的革新迫在眉睫。浙江大学杭州国际科创中心先进半导体研究院-杭州乾晶半导体联合实验室近期经过系列技术攻关,在大尺寸碳化硅(SiC)单晶生长及其衬底制备方面取得突破,成功生长出厚度达27毫米的8英寸n型碳化硅单晶锭,并加工获得了8英寸碳化硅衬底片,成功跻身8英寸碳化硅俱乐部,该项技术突破有望显著降低碳化硅功率器件的成本,助力半导体碳化硅产业的发展。