项目针对硅靶材体系基础材料理论和硅靶材生产工艺技术开展研究,符合国家和地方电子信息产业发展政策。项目形成了硅靶材基础材料胚体制备电阻匹配理论体系,建立了电阻率匹配计算模型,能有效提高生产准备效率,保障产品电性能可靠性性;研究出烧结法制备硅锗合金靶材的新工艺,制备出硅锗复合新型靶材;开发出复杂形状和大尺寸薄壁管状硅基靶材精密加工技术,试制出长度800mm,壁厚小于6mm 薄壁管状硅靶材,产品满足市场使用要求。项目研究形成的平面带孔硅靶加工工艺、大尺寸薄壁管状硅靶精密加工技术、硅锗复合靶加工工艺,具有推广前景;建设了硅靶材加工生产线,具备扩产批量生产能力。