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超低压气氛下的高能高速等离子射流沉积SiC涂层及其制备方法和应用

所属分类:新型材料产业

所属单位:西安交通大学

联系人:-

联系方式:0951-6087161 /5020588

所在地:

成果简介

本发明公开了一种超低气氛下的高能高速等离子射流沉积SiC涂层及其制备方法和应用,属于材料加工、机械制造领域。该方法以SiC陶瓷粉末为原料,用高能等离子将其快速加热至分解温度以上使其分解后,在超低压气氛中又通过气相在基体表面沉积形成SiC的涂层制备方法。该方法可快速气相沉积致密的SiC涂层,以价格低廉的SiC粉体为沉积源物质,沉积源物质来源便利,低成本。本发明为优越耐磨损、耐腐蚀、抗核辐射涂层,或导电涂层制备,提供了一种超低气氛下的高能高速等离子射流沉积SiC与SiC基涂层的制备方法。

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